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半导体蚀刻剂
本品为预先混好，随手可用的含有电子级质量的硝酸-HF酸混合液的蚀刻剂，用来蚀刻硅、锗、镓、砷化物以及其他半导体材料。
特殊硅蚀刻剂
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产品号 |
蚀刻剂 |
蚀刻速率 |
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RSE-100 |
缓慢蚀刻硅 |
20 ? /秒 |
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RSE-200 |
蚀刻台面型晶体管 |
100 ? /秒 |
标准硝酸－HF酸蚀刻剂
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产品号 |
蚀刻剂组成比 |
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RSE-101 |
10：1 |
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RSE-41 |
4：1 |
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RSE-31 |
3：1 |
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RSE-12 |
1：2 |
标准硝酸－HF酸－醋酸蚀刻剂
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产品号 |
蚀刻剂组成比 |
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RSE-533 |
5：3：3 |
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RSE-511 |
5：1：1 |
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RSE-111 |
1：1：1 |
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RSE-322 |
3：2：2 |
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RSE-1155 |
11：5：5 |
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RSE-563 |
5：6：3，250 ? /秒，20℃蚀刻锗 |
装在聚乙烯瓶内出售，4×1加仑/箱，可提供专利配方。
