用途
| 硅化钒 |
| 参数 | 数值 |
| 概述 | 硅化物是制备大规模集成电路的关键材料，用它可以作电路的欧姆接触、肖特基势垒和电极引线，超大规模集成电路结深很浅，如64 兆位的超大规模集成电路的PN 结深度浅到200nm ，在如此浅结表面用常规的方法制备电极引线，经常导致PN 结穿通，使电路失效，为此则需要制备薄层硅化物，其中硅化钒是一种最好的选择。 | | 用途 | 硅化物是制备大规模集成电路的关键材料，用它可以作电路的欧姆接触、肖特基势垒和电极引线，超大规模集成电路结深很浅.硅化钒的主要用途如下：1.制备硅化钒薄膜。2.制备一种吸声陶瓷材料。 | | 别名 | 硅化钒;二硅化钒 | | 英文别名 | bis(λ2-silanylidene)vanadium;VANADIUM DISILICIDE;VANADIUM SILICIDE;Vanadiumsilicidemesh;VANADIUM SILICIDE -325 MESH;VANADIUM SILICIDE, 99.5% (METALS BASIS);VANADIUM SILICIDE: 99.5%, -325 MESH;bis(λ2-silanylidene)vanadium | |
| 硅化钒 |
| 参数 | 数值 |
| 密度 | 4.420 | | 形态 | metallic prisms | | 水溶解性 | soluble HF [KIR83] |
|
| 硅化钒 |
| 参数 | 数值 |
| 危险品标志 | Xi | | 危险类别码 | 36/37 | | 安全说明 | 26-36 | | WGK Germany | 3
| | TSCA | Yes | | HazardClass | 6.1 |
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