公司简介
我们一直专注于高纯金属，半导体化合物的生产。
高纯金属，半导体化合物：4N - 7N 高纯碲（Te），镉(Cd)，硫(S)，铟(In)，硒(Se)，镓(Ga)，锑(Sb)，锡(Sn)，铅(Pb)，锗(Ge)，铜(Cu)，锌(Zn)等高纯单质； 4N -7N 碲系，硫系，硒系,化合物及铜铟镓硒（CIGS）材料和靶材； 碲化镉CdTe, 碲化铅PbTe, 碲化铜CuTe，碲化锗GeTe； 碲化锌ZnTe，三碲化二铋Bi2Te3，二氧化碲TeO2； 硫化镉CdS，硫化铅PbS，三硫化二镓Ga2S3，硫化锗GeS，硫化锌ZnS； 硫化锡SnS，三硫化二铟In2S3； 硒化镉CdSe，三硒化二镓Ga2Se3，硒化铜CuSe，三硒化二铟In2Se3； 硒化铅PbSe，硒化锗GeSe，硒化锌ZnSe，硒化铋Bi2Se3； 铜铟镓硒（CIGS）材料；
靶材：碲化镉靶，硫化镉靶，氧化锌靶，氧化锌铝靶，铜铟镓硒靶，三硒化二铟靶，硒化铜靶材。
公司现有的工艺有：
1，电解装置4套：回收电解铜，电解铅锌矿的阳极泥；高纯铟的电解，特别是除去里面的杂质锡。
2, 真空蒸馏装置12套：根据杂质的饱和蒸气压的不同，采用真空蒸馏的方法将其去除。
3，区域熔炼炉10套。
4，单间提拉炉12套。
5，CVD 化学气相沉积设备3套。
6，PVD装置。
7，真空熔炼设备。
8，THM 移动式加热设备。
公司现有的检测设备：
1，ICP-MS;ICP-OES (适用范围：检测<99.999% 纯度的产品）。
2，XRD （适用范围：化合物的相图）。
3，激光粒度分析仪（适用范围：粉末粒径）。
4，对于99.9999%以上的产品，提供GDMS 外检指标。
