制法1 如图所示 金属锔制备装置
将所用的反应物都预先经过纯化。通常以焙烧锫的硝酸盐或草酸盐沉淀得到的低密度氧化物为原材料，将氧化物与还原剂金属充分混合，并压成片状。适于制备几毫克量金属的蒸馏装置简图如图所示。用La金属(熔点为920℃)作为还原剂，还原可能是一个液固反应，若用Th金属(熔点为1700℃)作还原剂，反应至少在初始阶段是一个固固反应。蒸馏时，系统抽至超高真空，慢慢升高反应物的温度，使其脱气，进行还原反应。建议弃去产品的初始沉积物，使其作为吸气剂使用。然后以中等速率进行蒸馏，一般温度需要比基于所制备金属蒸气压而预测的温度高出200～300℃。最后金属锫收集在钽收集器中。收集装置需要维持相对冷却，以免使产品和收集器金属成为合金，也避免从收集器中取出产品时遇到困难。若要得到较纯产品，则可在收集最终产品前将金属再进行两次或三次蒸馏。
制法2 对于几微克到几毫克量金属锫的制备相对来说用氟化物的还原法较好。具体方法与金属锔的制法2一样。
具强放射性，熔点为986℃。有两种同素异形体。化学性质活泼，能与氟化镧或氢氧化镧发生共沉淀。
1.疏水参数计算参考值（XlogP）:无
2.氢键供体数量:0
3.氢键受体数量:0
4.可旋转化学键数量:0
5.互变异构体数量:无
6.拓扑分子极性表面积0
7.重原子数量:1
8.表面电荷:0
9.复杂度:0
10.同位素原子数量:0
11.确定原子立构中心数量:0
12.不确定原子立构中心数量:0
13.确定化学键立构中心数量:0
14.不确定化学键立构中心数量:0
15.共价键单元数量:1
