氧化铪 溅射靶材

氧化铪 溅射靶材 基本信息

中文名称：

氧化铪 溅射靶材 

中文别名：

氧化铪;
氧化铪 溅射靶材;
氧化铪溅射靶材, 101.4MM (4.0IN) DIA X 6.35MM (0.25IN) THIC;
氧化铪溅射靶材, 101.4MM (4.0IN) DIA X 6.35MM (0.25IN) THICK, 99.95% (METALS BASIS EXCLUDING ZR);
氧化铪(IV)溅射靶, 101.4MM (4.0IN) 直径 X 6.35MM (0.25IN) 厚, 99.95% (METALS BASIS 去除 ZR) 

英文名称：

HAFNIUM OXIDE

英文别名：

HAFNIUM OXIDE;
HAFNIUM(IV) OXIDE;
Hafnium(IV) oxide sputtering target,101.4mm (4.0in) dia x 6.35mm (0.25in) thick,99. (metals basis excluding Zr);
HAFNIUM(+4)OXIDE 

CAS No.：

71243-80-6

分 子 式：

HfO2

分 子 量：

210.49

精确分子量：

211.93600

PSA：

0.00000

EINECS：

235-013-2

分子结构式：

SDS：

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氧化铪 溅射靶材 物化性质

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