| 中文名称： | 高纯氧 |
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| 英文名称： | Oxygen |
| CAS No.： | 7782-44-7 |
| EINECS号： | 231-956-9 |
| 分 子 式： | O2 |
| 分 子 量： | 32.00 |
| 密 度： | 1.429（0℃） |
| 闪 点： | none |
| 熔 点： | ?218°C(lit.) |
| 沸 点： | ?183°C(lit.) |
| 危险品标志： |  O C |
| 风险术语： | R8;R52/53;R34; |
| 分子结构： |
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高纯氧(7782-44-7)的性状：
1.无色、无嗅、无味气体。氧能维持生命和助燃。在21.1℃和101.3kPa下气体相对密度(空气=1)1.105。沸点-182.96℃，凝固点-218.78℃。沸点下液体密度1141kg/m3。气体密度1.326kg/m3(21.1℃，101.3kPa)。临界温度-118.57℃，临界压力5043kPa，临界密度436.1kg/m3。三相点-218.79℃(0.1480kPa)。蒸发潜热213kJ/kg；熔化潜热13.86kJ/kg。在21.l℃、101.3kPa下气体比热容：Cp0.9191kJ/(kg·℃)，Cv0.6578kJ/(kg·℃)。在水中溶解度0.0491(体积比)(0℃)。气/液比(21.1℃和101.3kPa下气体，沸点下液体)860.5(体积比)。
2.氧无毒、曝露在高浓度中，对肺和中枢神经有不良影响。
3.氧可作为非液化气体在13790kPa压力下装运，也可作为低温液体装运。
高纯氧(7782-44-7)的用途：
对于MOS场效应器件，氧化层必须相当致密。与四氟化碳混合，用于等离子刻蚀。高纯氧用于二氧化硅的化学气相淀积；作为氧化源和产生高纯水的反应剂；采用高纯氧气进行干法氧化，其氧化层结构致密，正电荷少，耐压高。还用于金属的切割和焊接、炼钢、医疗、国防、电子、化工、冶金等部门。