| 中文名称： | 聚乙烯氧乙基肉桂酸酯 |
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| 英文名称： | polyvinylethoxyclnnamate |
| CAS No.： | |
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| 分 子 式： | （C13H14O3）n |
| 分 子 量： | |
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| 危险品标志： | |
| 风险术语： | |
| 分子结构： |
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性质:本品曝光时几乎不受氧的影响，因此不需氮气保护，分辨率可达1μm左右，灵敏度比聚乙烯醇肉桂酸酯光刻胶高一倍，黏附性好、抗蚀能力强、耐热性好，显影后可在190℃，坚膜30min不变质，感光范围在99n～475μm，特别对g线（436μm）敏感。
用2-氯乙基乙烯基醚与肉桂酸钠在季铵盐催化作用下合成乙烯基肉桂酸酯，然后以三氟化硼－乙醚作催化剂，采用低温阳离子聚合法进行溶液聚合而得。再加入增感剂、溶剂配制成液体胶。此法是日本加藤政雄于1971年研制，日本东京应化公司制成，1979年以商品名称OSR供应市场的。用途可用于复印精细线条超高频晶体管、微波三极管等半导体元件及中、大规模集成电路制造。还可用于等离子腐蚀、等离子去胶等半导体工业的新工艺、新技术中。是进行大面积、细线条光刻工艺中较理想的光致抗蚀剂。安全性本品用棕色玻璃瓶包装，外用塑料盒，每瓶100mL。按危险品运输，在避光、阴凉处存放。
