| 中文名称: | 聚乙二醇亚肉桂基丙二酸酯负型光刻胶 |
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| 英文名称: | Polyethylene glycol cinnamylidenemalonate negative photoresist |
| CAS No.: | |
| EINECS号: | |
| 分 子 式: | (C14H12O4)n |
| 分 子 量: | (244.25)n |
| 密 度: | |
| 闪 点: | |
| 熔 点: | |
| 沸 点: | |
| 危险品标志: |
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| 风险术语: |
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| 分子结构: |
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聚乙二醇亚肉桂基丙二酸酯负型光刻胶的性质:
外观性状:浅棕色或棕色液体,见光或受热后会交联成不溶性物质
溶解性:固体胶溶于丙酮、丁酮、环己酮、氯仿、吡啶等有机溶剂,不溶于水、醇类。
聚乙二醇亚肉桂基丙二酸酯负型光刻胶的用途:
用于集成电路光刻工艺中抗蚀涂层。