| 中文名称： | 聚苯乙烯-/V-(⒋羟基苯基)马来酰亚胺正性光刻胶 |
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| 英文名称： | olystyrene-N-(-4-hydroxyphyenyl)maleimide positive photoresist |
| CAS No.： | |
| EINECS号： | |
| 分 子 式： |
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| 分 子 量： | |
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| 闪 点： | |
| 熔 点： | |
| 沸 点： | |
| 危险品标志： |
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| 风险术语： |
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| 分子结构： |
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聚苯乙烯-/V-(⒋羟基苯基)马来酰亚胺正性光刻胶的性质如下：
它是一种耐240℃以上高温的正性光刻胶，用JKG－1型光刻机曝光，曝光时间为60s，1μm厚，用0.2%NaOH水溶液显影，分辨率高于1.6μm，反差为2.7。
聚苯乙烯-/V-(4-羟基苯基)马来酰亚胺正性光刻胶可以用于正性光刻胶。