负性电子束光刻胶的理化性质及危险特性(SDS\MSDS)表_结构式分子量熔沸闪点

中文名称：	负性电子束光刻胶
英文名称：	XH-REN-2 Negative Electron-beam Photoresist XH-REN-2
CAS No.：
EINECS号：
分子式：
分子量：
密度：
闪点：
熔点：
沸点：
危险品标志：
风险术语：
分子结构：

物化性质

负性电子束光刻胶的性状：
1.该产品主成分为聚4-氯甲基苯乙烯。
2.外观为无色或微黄色透明黏稠液体，可溶于酮、苯等溶剂，遇水、醇等会发生沉淀。

负性电子束光刻胶的用途：
适用于电子束制版、深紫外翻版光刻以及可作软X射线负性光刻胶使用。

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