一氧化硅(10097-28-6)

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10097-28-6
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基本信息

  • 一氧化硅
  • 10097-28-6
  • 氧化硅(II)
  • OSi
  • 44.08
  • Silylene, oxo-
  • 233-232-8
  • 2.13g/mLat 25°C(lit.)
  • Siliconoxide (OSi) (8CI); Oxosilylene; Silicon monooxide; Silicon monoxide; Siliconoxide (SiO)
  • 1880°C
  • 1870 °C
  • 1880°C

详细信息

分子式:SiO 分子量:44.08 EINECS:-233-232-8 别 名: 别名英文名:Silicon monoxide,oxo-silylen 性状:块状或粉末体,块状为黑色甲壳状不规则块体。粉体为红褐色粉末。温度高于 700 ℃时 易氧化, 700 ℃ 以下温度性质稳定,不和除 HF 外的任何酸反应,不溶于碱和水。溶于稀氢氟酸和硝酸的混酸。 熔点:>1702℃ 沸点:1880℃ 密度:2.13 一氧化硅性脆结构致密。温度高于 1180 ℃时 为非稳定状态极易歧化为 Si 和 SiO 。在空气中加热时生成白色的二氧化硅粉末。由纯度99.5%的二氧化硅粉末与煤沥青粉末(或硅粉)以C/SiO2=1.3或Si/SiO2=1.2配比混 合,放入电加热的真空炉,注入非氧化性气体(如氩、氢等气体),高温反应,制得超细(0.1/μm以下)无定形氧化硅。极富有活性。固态一氧化硅可作绝缘 材料。 备注: 以上描述,仅作参考,并不表示您收到的产品,与此项描述完全相符,产品的出厂标准,请参见质量标准。 质量标准 外观Appearance 暗灰色或棕色粉末 纯度Purity ≥99.99% Based on Trace Metals Impurities of ICP ICP Assay Confirms silicon component 痕量金属杂质trace metallic impurities ≤200ppm by ICP Atomic emission 粒径particle size 200mesh 镀膜级,99.8%,particle size 3.5-5 mm 纯度Purity ≥99.8 % 粒度particle size 3.5-5 mm 密度density 2.13 g/mL (25 °C) 贮存:严禁潮湿和高温地点存放。 用途:作为精细陶瓷原料具有重要价值。也可在真空中将其蒸发,涂在光学仪器用的金属反射镜上作保护膜。还可用于制造半导体材料。也用于光学玻璃。 联合国编号:
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成都润泽本土化工有限公司

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