金属硅

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金属硅 基本信息

中文名称:
金属硅 
中文别名:
单质硅;
硅粉;
硅;
硅片 
英文名称:
Silicon
英文别名:
Silicon;
silicon atom;
porous silicon;
silicon powder 
CAS No.:
7440-21-3
分 子 式:

Si

分 子 量:
28.08
精确分子量:
27.97693
PSA:
0.00000
MDL:
MFCD00085311
EINECS:
231-130-8
InChI:
InChI=1/Si
危险品标志:

F:Highly flammable
 

风险术语:

R11;

安全术语:
S16; S33; S7/9;
分子结构式:
SDS:
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金属硅 制备方法及用途

制备方法

主要用作制多晶硅、单晶硅、硅铝合金及硅钢合金的化合物。

合成制备方法

1.三氯氢硅法:将干燥的硅粉加入合成炉中,与通入的干燥氯化氢气体在280~330℃有氯化亚铜催化剂存在下进行氯化反应,反应气体经旋风分离除去杂质,再用氯化钙冷冻盐水将气态三氯氢硅冷凝成液体,经粗馏塔蒸馏和冷凝,除去高沸物和低沸物,再经精馏塔蒸馏和冷凝,得到精制三氯氢硅液体。纯度达到7个“9”以上、杂质含量小于1×10-7,硼要求在0.5×10-9以下。提纯后的三氯氢硅送入不锈钢制的还原炉内,用超纯氢气作还原剂,在1050~1100℃还原成硅,并以硅芯棒为载体,沉积而得多晶硅成品。其反应式如下:

图XIV-6 硅的制取装置

2.用SiO2含量大约为95%的硅石和灰分少的焦炭混合,加热到1900℃左右进行还原。此方法制得的硅纯度为97%~98%,被称作金属硅。再将金属硅融化后进行重结晶,用酸除去杂质,得到纯度为99.7%~99.8%的金属硅。如要将它做成半导体用硅,还要将其转化成易于提纯的液体或气体形式,再经蒸馏、分解过程得到多晶硅。如需得到高纯度的硅,则需要进行进一步的提纯处理。

3.用SiO2含量大约为95%的硅石和灰分少的焦炭混合,用1000~3000kVA开式电弧炉,加热到1900℃左右进行还原。

用途简介

用途

1.高纯的单晶硅是重要的半导体材料。金属陶瓷、宇宙航行的重要材料。光导纤维通信,最新的现代通信手段。性能优异的硅有机化合物。硅是一种半导体材料,可用于制作半导体器件和集成电路。还可以合金的形式使用(如硅铁合金),用于汽车和机械配件。也与陶瓷材料一起用于金属陶瓷中。还可用于制造玻璃、混凝土、砖、耐火材料、硅氧烷、硅烷。制造硅烷和硅酮。制造硅有机化合物、合金、耐火材料等。

2.主要用于半导体、合金、有机硅高分子材料。高纯的单晶硅是重要的半导体材料。用作二极管、三极管、晶闸管和各种集成电路材料。在开发能源方面也是一种很有前途的材料,可以制造太阳能电池等。将陶瓷和金属混合烧结,制成金属陶瓷复合材料,耐高温,富韧性,可以切割,集合了金属和陶瓷的优点,是金属陶瓷、宇宙航行的重要材料。用纯二氧化硅制得的高透明度的玻璃纤维,光纤通信容量高,且不受电、磁干扰,并具有高度的保密性,可用于光导纤维通信。硅有机化合物可作为塑料、涂料等,得到了广泛应用。

3.用于制造合金、有机硅化合物和四氯化硅等,是一种极重要的半导体材料。[14]

金属硅 物化性质

外观与性状:
银色-灰色固体
密度:
1 g/cm3
熔点:
147 °C
沸点:
2355 °C
水溶解性:
INSOLUBLE
存储条件/存储方法:

储存注意事项[13] 储存于阴凉、干燥、通风良好的库房。库温不宜超过35℃。远离火种、热源。包装要求密封,不可与空气接触。应与氧化剂等分开存放,切忌混储。采用防爆型照明、通风设施。禁止使用易产生火花的机械设备和工具。储区应备有合适的材料收容泄漏物。

稳定性相关:

1.晶体硅属于原子晶体,硬而有光泽,是典型的半导体。在常温下,除氟化氢以外,很难与其他物质发生反应,不溶于水、硝酸和盐酸,溶于氢氟酸和碱液。在高温下能与氧气等多种元素化合。具有硬度高、不吸水、耐热、耐酸、耐磨和耐老化等特点。硅在自然界分布极广,地壳中约含27.6%,主要以二氧化硅和硅酸盐的形式存在。

2.生产设备要密闭,车间通风应良好。生产人员工作时要佩戴防毒口罩,密闭眼镜,穿工作服等劳动保护用品,以防止呼吸器官、眼睛和皮肤接触。中毒者应立即转移到新鲜空气中进行人工呼吸、输氧,注射葡萄糖及强心剂,并迅速送医院治疗。

3.硅粉与钙、碳化铯、氯、氟化钴、氟、三氟化碘、三氟化锰、碳化铷、氟化银、钾钠合金剧烈反应。粉尘遇火焰或与氧化剂接触发生反应,有中等程度的危险性。

4.稳定性[9]  稳定

5.禁配物[10]  强氧化剂、水蒸气

6.避免接触的条件[11]  潮湿空气

7.聚合危害[12]  不聚合

其它信息:

1.性状:黑褐色无定形非金属粉末。[1]

2.熔点(℃):1410[2]

3.沸点(℃):2355[3]

4.相对密度(水=1):2.30(20℃)[4]

5.饱和蒸气压(kPa):0.13(1724℃)[5]

6.临界压力(MPa):53.6[6]

7.溶解性:不溶于水,不溶于盐酸、硝酸,溶于氢氟酸、碱液。[7]

金属硅 安全信息

包装等级:
III
风险类别:
4.1
海关代码:
2804690000
WGK_Germany:
2
德国有关水污染物质的分类清单
危险类别码:
R11
安全说明:
S16-S33-S7/9
RTECS号:
VW0400000
危险标志:
F:Flammable

金属硅 毒理性

CHEMICAL IDENTIFICATION

RTECS NUMBER :
VW0400000
CHEMICAL NAME :
Silicon
CAS REGISTRY NUMBER :
7440-21-3
LAST UPDATED :
199712
DATA ITEMS CITED :
31
MOLECULAR FORMULA :
Si
MOLECULAR WEIGHT :
28.09

HEALTH HAZARD DATA

ACUTE TOXICITY DATA

TYPE OF TEST :
Standard Draize test
ROUTE OF EXPOSURE :
Administration into the eye
SPECIES OBSERVED :
Rodent - rabbit
REFERENCE :
FAONAU FAO Nutrition Meetings Report Series. (Rome, Italy) No.?-57, 1948-77. Discontinued. Volume(issue)/page/year: 53A,21,1974 ** ACUTE TOXICITY DATA **
TYPE OF TEST :
LD50 - Lethal dose, 50 percent kill
ROUTE OF EXPOSURE :
Oral
SPECIES OBSERVED :
Rodent - rat
DOSE/DURATION :
3160 mg/kg
TOXIC EFFECTS :
Details of toxic effects not reported other than lethal dose value
REFERENCE :
FAONAU FAO Nutrition Meetings Report Series. (Rome, Italy) No.?-57, 1948-77. Discontinued. Volume(issue)/page/year: 53A,21,1974
TYPE OF TEST :
LDLo - Lowest published lethal dose
ROUTE OF EXPOSURE :
Intraperitoneal
SPECIES OBSERVED :
Rodent - rat
DOSE/DURATION :
500 mg/kg
REFERENCE :
NTIS** National Technical Information Service. (Springfield, VA 22161) Formerly U.S. Clearinghouse for Scientific & Technical Information. Volume(issue)/page/year: OTS0536164 *** REVIEWS *** ACGIH TLV-TWA 10 mg/m3 DTLVS* The Threshold Limit Values (TLVs) and Biological Exposure Indices (BEIs) booklet issues by American Conference of Governmental Industrial Hygienists (ACGIH), Cincinnati, OH, 1996 Volume(issue)/page/year: TLV/BEI,1997 *** U.S. STANDARDS AND REGULATIONS *** MSHA STANDARD-air:TWA 10 mg/m3 DTLWS* "Documentation of the Threshold Limit Values for Substances in Workroom Air," Supplements. For publisher information, see 85INA8. Volume(issue)/page/year: 3,27,1973 OSHA PEL (Gen Indu):8H TWA 15 mg/m3, total dust CFRGBR Code of Federal Regulations. (U.S. Government Printing Office, Supt. of Documents, Washington, DC 20402) Volume(issue)/page/year: 29,1910.1000,1994 OSHA PEL (Gen Indu):8H TWA 5 mg/m3, respirable fraction CFRGBR Code of Federal Regulations. (U.S. Government Printing Office, Supt. of Documents, Washington, DC 20402) Volume(issue)/page/year: 29,1910.1000,1994 OSHA PEL (Construc):8H TWA 15 mg/m3, total dust CFRGBR Code of Federal Regulations. (U.S. Government Printing Office, Supt. of Documents, Washington, DC 20402) Volume(issue)/page/year: 29,1926.55,1994 OSHA PEL (Construc):8H TWA 5 mg/m3, respirable fraction CFRGBR Code of Federal Regulations. (U.S. Government Printing Office, Supt. of Documents, Washington, DC 20402) Volume(issue)/page/year: 29,1926.55,1994 OSHA PEL (Shipyard):8H TWA 15 mg/m3, total dust CFRGBR Code of Federal Regulations. (U.S. Government Printing Office, Supt. of Documents, Washington, DC 20402) Volume(issue)/page/year: 29,1915.1000,1993 OSHA PEL (Shipyard):8H TWA 5 mg/m3, respirable fraction CFRGBR Code of Federal Regulations. (U.S. Government Printing Office, Supt. of Documents, Washington, DC 20402) Volume(issue)/page/year: 29,1915.1000,1993 *** OCCUPATIONAL EXPOSURE LIMITS *** OEL-AUSTRALIA:TWA 10 mg/m3 JAN 1993 OEL-BELGIUM:TWA 10 mg/m3 JAN 1993 OEL-DENMARK:TWA 10 mg/m3 JAN 1993 OEL-FRANCE:TWA 10 mg/m3 JAN 1993 OEL-THE NETHERLANDS:TWA 10 mg/m3 JAN 1993 OEL-SWITZERLAND:TWA 4 mg/m3 JAN 1993 OEL-UNITED KINGDOM:TWA 10 mg/m3 (total dust) JAN 1993 OEL-UNITED KINGDOM:TWA 5 mg/m3 (resp. dust) JAN 1993 OEL IN BULGARIA, COLOMBIA, JORDAN, KOREA check ACGIH TLV OEL IN NEW ZEALAND, SINGAPORE, VIETNAM check ACGIH TLV *** NIOSH STANDARDS DEVELOPMENT AND SURVEILLANCE DATA *** NIOSH RECOMMENDED EXPOSURE LEVEL (REL) : NIOSH REL TO SILICON, respirable fraction-air:10H TWA 5 mg/m3 REFERENCE : NIOSH* National Institute for Occupational Safety and Health, U.S. Dept. of Health, Education, and Welfare, Reports and Memoranda. Volume(issue)/page/year: DHHS #92-100,1992 NIOSH RECOMMENDED EXPOSURE LEVEL (REL) : NIOSH REL TO SILICON, total dust-air:10H TWA 10 mg/m3 REFERENCE : NIOSH* National Institute for Occupational Safety and Health, U.S. Dept. of Health, Education, and Welfare, Reports and Memoranda. Volume(issue)/page/year: DHHS #92-100,1992 NIOSH OCCUPATIONAL EXPOSURE SURVEY DATA : NOHS - National Occupational Hazard Survey (1974) NOHS Hazard Code - 68695 No. of Facilities: 3856 (estimated) No. of Industries: 48 No. of Occupations: 66 No. of Employees: 99138 (estimated) NOES - National Occupational Exposure Survey (1983) NOES Hazard Code - X4229 No. of Facilities: 12 (estimated) No. of Industries: 1 No. of Occupations: 5 No. of Employees: 1740 (estimated) No. of Female Employees: 503 (estimated) NOES - National Occupational Exposure Survey (1983) NOES Hazard Code - X4230 No. of Facilities: 118 (estimated) No. of Industries: 6 No. of Occupations: 6 No. of Employees: 1962 (estimated) No. of Female Employees: 112 (estimated) NOES - National Occupational Exposure Survey (1983) NOES Hazard Code - X6495 No. of Facilities: 19 (estimated) No. of Industries: 1 No. of Occupations: 2 No. of Employees: 2379 (estimated) NOES - National Occupational Exposure Survey (1983) NOES Hazard Code - 68695 No. of Facilities: 59062 (estimated) No. of Industries: 296 No. of Occupations: 129 No. of Employees: 693583 (estimated) No. of Female Employees: 28164 (estimated)
毒理学数据:

1.急性毒性[8]   LD50:3160mg/kg(大鼠经口)

2.刺激性   暂无资料

生态数据:

1.生态毒性  暂无资料

2.生物降解性  暂无资料

3.非生物降解性   暂无资料

金属硅 MSDS

第一部分:化学品名称

金属硅 分子结构与计算化学数据

分子结构数据

1、摩尔折射率:无可用的

2、摩尔体积(cm3/mol):无可用的

3、等张比容(90.2K):无可用的

4、表面张力(dyne/cm):无可用的

5、介电常数:无可用的

6、极化率:无可用的

7、单一同位素质量:27.974732 Da

8、标称质量:28 Da

9、平均质量:28.0833 Da

计算化学数据

1.疏水参数计算参考值(XlogP):无

2.氢键供体数量:0

3.氢键受体数量:0

4.可旋转化学键数量:0

5.互变异构体数量:无

6.拓扑分子极性表面积0

7.重原子数量:1

8.表面电荷:0

9.复杂度:0

10.同位素原子数量:0

11.确定原子立构中心数量:0

12.不确定原子立构中心数量:0

13.确定化学键立构中心数量:0

14.不确定化学键立构中心数量:0

15.共价键单元数量:1

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武汉吉鑫益邦生物科技有限公司

产品介绍:
产品名称:金属硅 Cas号:7440-21-3 纯度:0-99% 包装信息:1kg,25kg,200kg,400kg,500kg 价格:洽谈
联系方式:
联系人:周美玲 电话:027-59768650 手机:15629090339
QQ: 2241752642
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电话: 19906633110