| 质量等级 | 包装(采购量区间) | 价格 | 库存 |
|---|---|---|---|
| 美国进口 | 瓶装加仑 | 面议 | 2 |
美国Transene川思蚀刻剂国内总代理，有需要请电话联系17753210416，QQ：3302581098
NPD阴性光刻胶显影剂
说明
Transene NPD阴性光刻胶显影剂是能使暴光的阴性光刻胶显影的高纯净有机溶液。
提供多种专利溶剂显影液用于不同光刻胶的显影。它们分别与所使用的光刻胶相匹配。这些显影剂是根据具体工艺条件所要求的酸度大小进行选择的。所有阴性光刻胶显影化学药品都以工作溶液的形式出售。
性质
|
产品 |
二甲苯 : 斯托达德溶剂（Stoddard） |
|
NPD 4001 |
NA |
|
NPD 4030 |
100:0 |
|
NPD 4032 |
-- |
|
NPD 4033 |
1:2 |
|
NPD 4040 |
NA |
|
NPD 4050 |
1:1 |
|
PKPⅡ型显影剂 |
NA |
显影
在显影过程中，根据显示图象情况可用显影液采用冲洗，喷液或浸泡等形式将未暴光的光刻胶除去，并同时保护好基体。为了得到极高的细线分辨率，建议用喷液显影方法。对于要求不甚严格的图案，如线宽和间距大于7μ，同时又采用机械法或通氮气发泡时可采用浸泡法显影。下表给出用喷液和浸泡法显影所需用的时间：
典型喷涂时间
|
溶液 |
时间（秒） |
|
显影剂，二甲苯，斯托达德溶剂 |
10 ～ 15 |
|
冲洗，n-丁基乙酸酯 |
10 ～ 15 |
|
氮气干燥 |
15 ～ 20 |
典型浸泡显影时间
|
溶液 |
时间（秒） |
|
显影剂，二甲苯，斯托达德溶剂 |
60 ～ 75 |
|
冲洗，n-丁基乙酸酯 |
20 ～ 30 |
|
氮气干燥 |
15 ～ 20 |
用红外线烘烤（预蚀刻）
在一个对流烘箱中于140℃±5℃用红外线烘烤25±5分钟，在烘烤期间显影溶剂蒸发掉，同时光刻胶和基体间的粘结力增强。这里应当指出，红外线辐射能影响不同基体的温度是各不相同的。烘烤和蚀刻之间的时间最多为4小时。
蚀刻
光刻胶与酸性和碱性金属蚀刻剂以及氢氟酸缓冲液都相匹配。时刻速率决定于温度，搅拌速度和蚀刻混合物的种类。而且这里难以详细说明各种不同蚀刻剂对光刻胶的影响。
光刻胶的去除
光刻胶可以用任何一种常用化学体系去除掉。若干去除剂溶液已有市售，有的需要加热，有的需要擦洗。
