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阳性光刻胶去除剂
PRR-001和PRR-002
PRR-001
说明
阳性光刻胶去除剂PRR-001是由水溶性和可生物降解成分组成的一种专利混合物。PRR-001用来去除（溶解）烘烤在各种基体上（如砷化镓、铬、硅等）的普通阳性光刻胶，使用得当时，对各种金属以氧化物表面无腐蚀作用。
PRR-001去除剂不含磷酸盐、铬酸盐、苯酚、氯代烃和硫酸等，使用时无特别注意事项。PRR-001在室温下使用性能良好，槽液寿命约为2000薄片/加仑。加温时可以用来去除聚酰胺。成本去除一个薄片上的光刻胶为一美分。当贮放在避光的阴凉处时，有效期为一年。
化学性质和物理性质
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外观 |
淡黄色液体 |
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比重（68℉） |
0.99±0.01 |
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折射率（nD26.0℃） |
1.4271±0.0005 |
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PH（68℉） |
12.60±0.05 |
应用
槽液组成
对所有半导体操作都是全强度，喷涂或浸泡槽操作。
如果采用浸泡操作法，需在室温搅拌3-5分钟。亦可在加温条件下（70-90℃）进行溶解。浸泡操作采用双槽系统，喷液操作采用传送带设备。
冲洗
PRR-001全溶于水，冲洗时只需用去离子水。
槽液寿命
当去除光刻胶的操作时间超过15分钟，或超过2000薄片/加仑时，槽液便要更换一次。
PRR-002
说明
阳性光刻胶去除剂PRR-002是一种由水溶性和可生物降解的成分组成的专利混合物。它可以去除所有用远紫外线处理以便在进行离子注入，离子蚀刻或等离子体蚀刻的各种金属基体上的一般阳性光刻胶。PRR-002在使用得当时，对各种金属和氧化物表面无腐蚀作用。
PRR-002不含有磷酸盐、铬酸盐、苯酚、氯代烃以及硫酸，用其进行处理时无特殊注意事项。PRR-002与所有聚四氟乙烯、聚丙烯和聚乙烯材料都相匹配。PRR-002在室温和稍加温情况下表面性能良好，可除去各种难以洗除的光刻胶。使用PRR-002明显经济合算。PRR-002应当贮放在避光的阴凉处，有效期6个月。
化学性质和物理性质
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外观 |
淡黄色液体 |
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比重（68℉） |
0.97±0.01 |
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折射率（nD22.5℃） |
1.4271±0.0005 |
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PH（68℉） |
12以上 |
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过滤 |
0.2μ |
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外观 |
淡黄色液体 |
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比重（68℉） |
0.99±0.01 |
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折射率（nD26℃） |
1.4271±0.0005 |
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PH（68℉） |
12.60±0.05 |
应用
槽液组成
对多数半导体操作都是全强度。
建议用双槽体系
1、对于标准光刻胶处理（90-140℃）：在55℃，3-5分钟
2、 对于远红外和硬光刻胶处理（150-200℃）：在55-90℃，每槽5-10分钟
冲洗
PRR-002完全溶解于水，可仅用去离子水冲洗
槽液补充/更换
当去除光刻胶的操作时间超过15分钟或处理量超过2000片/加仑时，便要更换去除剂。
1、要不断补充去除剂以保持其容量
2、 当每槽去除光刻胶的操作时间超过20分钟时便要更换槽液
