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氧化铝型抛光粉Polmet
特别加工制备的电子级氧化铝研磨化合物，它能满足关键表面磨光和抛光的要求。
特点
· 具有六方晶系结构的高纯氧化铝
· 有效的颗粒分布
· 快速研磨速率
· 超高抛光度
· 满足ASTM标准的要求
重要应用范围
用来磨光和抛光锗、硅、金属间化合物、瓷器、纯粒铁、激光晶体、光学玻璃棱镜、塑料接触棱镜、窗口、不锈钢和其他金相样品。
说明
研磨和抛光产品Polmet是白色、纯净的六方晶系氧化铝化合物。此化合物硬度极高（莫氏硬度）且粒度分布极为均匀。抛光粉Polmet在关键性研磨和抛光方面的性能是无与伦比的。
Polmet化合物以其颗粒大小而分级，并以成品形式供应，分别满足各种具体的精确的要求。
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级 别 |
微米尺寸 |
应 用 |
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Polmet-alpha（α） |
0.05 |
高度抛光 |
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Polmet-beta（β） |
0.3 |
高度抛光 |
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Polmet-gamma（γ） |
1 |
抛光 |
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Polmet-delta（δ） |
3 |
极细研磨 |
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Polmet-epsilon（ε） |
5 (2,500) |
细研磨 |
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Polmet-zeta（ζ） |
10 (1,250) |
研磨 |
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Polmet-eta（η） |
12 |
研磨 |
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Polmet-iota（ι） |
15 |
粗研磨 |
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Polmet-kappa （κ） |
20(600) |
粗研磨 |
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Polmet-lambda（λ） |
25 (500) |
粗研磨 |
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Polmet-mu（μ） |
30 (400) |
粗研磨 |
括号中注出的是相应的目数。
产品也以浆状出售，见公报（Bulletin）116期：Polmet氧化铝抛光粉
应用
Polmet氧化铝以水浆、膏状和油悬浮液等形式应用于磨光和抛光工艺工程。通常要使用标准布、塑料和专利磨光和抛光盘。
